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產品名稱：涂鍍層測厚儀
產品型號：CEM華盛昌DT-156
更新時間：2023-12-19
產品特點：CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀 可測量涂鍍層： 任何磁性物質表面的非磁性涂鍍層厚度；任何非磁性金屬表面的絕緣涂鍍層厚度
CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀的詳細資料：
CEM華盛昌DT-156涂鍍層測厚儀
【產品描述】
DT-156涂鍍層測厚儀探頭可以在電磁感應和渦流兩種原理下工作。在自動模式（AUTO）下，兩種原理可視測量的基體自動轉換，或可通過菜單進行自動模式和非自動模式轉換。
CEM華盛昌DT-156【產品特性】
1、可測量涂鍍層： 任何磁性物質表面的非磁性涂鍍層厚度；任何非磁性金屬表面的絕緣涂鍍層厚度
2、易于操作的菜單設計
3、連續和單次測量方式
4、直接工作模式和組工作模式
5、可統計并顯示：平均值、zui大值、zui小值、標準方差、統計數
6、非常方便的進行一點或兩點校準
7、可保存320個測量數據
8、USB傳輸數據至計算機分析統計
9、實時刪除測量數據和組數據
10、高低限報警
11、低電和錯誤提示可設置的自動關機功能
CEM華盛昌DT-156【技術指標】
傳感器探頭 | 鐵磁性 | 非鐵磁性 |
工作原理 | 磁感應 | 渦流 |
測量范圍 | 0~1250um | 0~1250um |
| 0~49.21mil | 0~49.21mils |
誤差 | 0~850 um (+/- 3%+1um) | 0~850 um(+/- 3%+1.5um) |
(相對當前讀數) | 850um~1250um (+/- 5%) | 850um~1250 um (+/- 5%) |
| 0~33.46 mils (+/- 3%+0.039mils) | 0~33.46mils (+/- 3%+0.059mils) |
| 33.46um~49.21mils (+/- 5%) | 33.46um~49.21mils (+/- 5%) |
精度 | 0~50um (0.1um) | 0~50um (0.1um) |
| 50um~850um(1um) | 50um~850um(1um) |
| 850um~1250um(0.01mm) | 850um~1250um(0.01mm) |
| 0~1.968mils (0.001mils) | 0~1.968mils (0.001mils) |
| 1.968mils~33.46mils(0.01mils) | 1.968mils~33.46mils(0.01mils) |
| 33.46mils~49.21mils(0.1mils) | 33.46mils~49.21mils(0.1mils) |
單位換算：
1、mil（PCB或晶片布局的長度單位）：1 mil =千分之一英寸，1mil = 0.0254mm。
2、um有時也做微米（單位）使用，1mm（毫米）=1000um（微米) 1um=1000nm(納米）。
使用方法
1、工作模式：
1-1.AOTO：探頭根據待測物體性質(鐵磁性物質或非鐵磁性金屬)自動轉入相應工作模式。如果待測物體是鐵鎳等磁性金屬物質，探頭將轉入磁感應原理工作模式；如果待測物體時非磁性的金屬物質，探頭將轉入渦流原理工作模式。
1-2.Fe：探頭將是磁感應原理工作模式。
1-3.No-Fe：探頭將是渦流原理工作模式。
2、直接測量(DIR)：開機默認為此模式。用于快速隨意測量。在此模式下，測量數據會臨時保存在內存中，可以通過菜單瀏覽所有已存數據和統計值，但一旦關機、系統掉電或從直接測量模式切換到組工作模式，這些數據將會丟失。此模式下，zui多可統計80個數據，超出的讀數將替換zui舊讀數并保存更新統計值。
3、組測量(GR01～GR04)：每一組工作模式下，系統可保存zui多80個數據，5個統計值。關機和掉電，所有保存值不會丟失，并且組與組之間相互獨立不受影響，需要刪除保存的值，可通過菜單操作進行。當測量數據超出80個，數據測量可以繼續進行，但是所有數據將不被保存和統計計算。如有需要，可通過菜單刪除組數據。
4、讀數瀏覽：通過“Measurement view”菜單項，瀏覽當前工作組所有測量讀數。
5、測量中的統計數據：厚度統計數據可統計80個讀數(GR01～GR04總共zui多可存儲4*80=320個讀數)。此外，在DIR模式除了讀數不存儲外，其他和GRO模式相同。
NO.：開機以來進行統計的讀數個數
AVG：平均值
Sdev：標準方差
MAX：zui大讀數
MIN：zui小讀數
包裝清單
*1使用說明書 *1合格證 *1電池*2硬盒*1彩盒*1 USB連接線纜*1軟件CD*1探頭*1鋼鐵基體*1鋁塊基體*1標準薄片*2
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